- 1. 조립용도 광화이버 조심
- 광화이버 간, 또는 광화이버와 광디바이스의 코어를 정확하게 맞추고 손실없이 광을 전달하기 위해서는 고정도 위치 결정이 필요합니다. 당사의 스테이지를 이용하여 나노 부터 서브 마이크로의 위치 결정을 처리하고 있습니다. 화이버의 종류에 따라서 XY방향 으로 고정도를 요구하는 경우, 각도 방향으로 고정도를 요구하는 경우 등이 있습니다.
- 2. 검사•계측용도 진공 스테이지 이동 기구
- 스테이지를 진공 속에 설치한 상태에서 대기측에서 회전도입기를 이용하여 플랜지를 통해 스테이지의 구동축과 접속합니다. 스테이지 테이블 상면에 시료를 올린 상태에서 진공 속의 위치 결정을 대기측에서 처리할 수 있습니다.
- 3. 검사 • 계측용도 현미경 관찰, 측정
- 상부에서 현미경 등의 광학계로 워크를 측정할 때에는 워크를 XY방향으로 이동시킬 필요가 있습니다. 워크와 광학계의 정도에 따라서 XY의 진직 정도를 수 μm 정도로 억제할 필요가 있습니다. 폐사의 스테이지는 주로 스트로크 최대 300mm 정도로 μm 대와 서브마이크로의 고정도를 요구하는 워크 관찰, 측정에 이용할 수 있습니다.
- 4. 검사 • 계측용도 각종 용도의 검사에 사용
- 전자부품기판을 다양한 방향으로 움직여 CCD카메라로 관찰하며 검사하기 위한 자동 6축 스테이지입니다. 밑에서 부터 X, Y, Z, θz, θx, θy로 구성되어 있습니다. 또한 택타임을 짧게하기 위해 모터를 서브 모터로 변경할 수 있습니다.
- 5. 조립용도 휴대전화 등 카메라렌즈 부품의 조립 조정
- 카메라렌즈 부품을 UV 접착할 때에 스테이지를 이용합니다. 한 쪽의 렌즈부품을 기준으로 다른 한쪽의 렌즈부품을 접착할 때에 3방향으로의 위치 결정을 합니다.
- 6. 검사 • 계측용도 프로브테스터
- 반도체 디바이스, 액정 디바이스 등 웨이퍼사에 미세 가공된 단계에서 전기적인 테스트 를 할 때에는 실제 프로브를 사용하여 전기를 흘리고 측정합니다. 프로브의 선단을 정확하게 워크의 전극부분에 대고 웨이퍼 상의 모든 장치를 똑같이 측정하기 위해 XY 스테이지에는 누적오차와 진직성능이 요구됩니다. 또한, 워크를 이동시킬 때에는 일단 프로브를 올리고 워크를 이동시킨 후 프로브를 내립니다. 단, 그 때 항상 똑같은 높이로 프로브의 선단을 움직여야 합니다. Z 스테이지의 재현성도 중요합니다.
- 7. 검사 • 측정용도 레이저 간섭계 광축조정
- 레이저 간섭계를 사용한 각종 측정에는 미러, 프리즘 등 다양한 광학 장치를 광축상 에서 고정도로 위치 결정하고 위치 결정을 한 후에 정지할 필요가 있습니다. 주로 이러한 용도에는 수동 스테이지가 사용됩니다. 단, 클램프 시의 틀어짐을 최소한으로 억제하면서 제대로 고정될 수 있는 클램프 구조가 요구됩니다. 폐사의 수동 스테이지는 이러한 요구에 응답합니다.
- 8. 검사 • 계측용도 배광측정
- 자동차의 헤드라이트, 무대조명, 쇼윈도조명 등의 배광측정 시에 램프를 상하좌우 방향 으로 기울여 규정의 거리에서 조도를 측정합니다. 특히 자동차의 헤드라이트는 안전을 위해 엄격한 규격에 따른 신뢰성 높은 측정이 요구됩니다. 또한, 워크의 크기가 변했을 때에 워크 중심을 회전 중심에 맞추기 위해 Z 스테이지가 상부에 필요하게 됩니다. 비교적 중량물을 탑재하기 때문에 스테이지는 높은 강성이 요구됩니다.
